Pemanas Grafit Seramik SiC

Semixlab SiC Ceramic Graphite Heater ialah elemen pemanasan berprestasi tinggi yang direka bentuk untuk persekitaran suhu ekstrem dalam pembuatan semikonduktor termaju. Dibina daripada komposit teguh salutan seramik silikon karbida (SiC) dan grafit ketulenan tinggi, pemanas ini menawarkan kekonduksian terma yang unggul, kestabilan kimia dan ketahanan mekanikal—menjadikannya penyelesaian ideal untuk proses terma dalam fabrikasi wafer.

Komposisi Bahan dan Sifat Fizikal Utama

●Bahan Teras: Grafit isostatik berketumpatan tinggi dan berbutir halus

●Bahan Salutan: Silikon karbida (SiC) terdeposit wap kimia (CVD)

● Kekerasan Permukaan: ≥ 2500 HV

●Konduktiviti Terma: ~120–150 W/m·K (teras grafit)

●Suhu Operasi: Sehingga 1500°C dalam suasana vakum atau gas lengai

●Kerintangan Pengoksidaan: Cemerlang dalam persekitaran terkawal kerana lapisan SiC pelindung

●Kekonduksian Elektrik: Rintangan yang disesuaikan untuk pemanasan seragam dan kecekapan kuasa

●Ketahanan Kakisan: Rintangan tinggi terhadap gas menghakis dan bahan kimia proses (cth, HCl, HF)

Reka bentuk komposit ini memanfaatkan keseragaman terma grafit dan keteguhan kimia SiC, memastikan kebolehpercayaan jangka panjang di bawah keadaan kitaran haba yang keras.

Penggunaan pemanas grafit seramik SiC

Pemanas grafit seramik SiC memainkan peranan yang tidak boleh ditukar ganti dalam berbilang pautan proses utama pembuatan semikonduktor, dan ciri berprestasi tinggi mereka secara langsung berkaitan dengan kualiti, prestasi dan kecekapan pengeluaran peranti semikonduktor.

1. Pemendapan filem nipis (PVD/CVD/ALD): Dalam proses pertumbuhan filem nipis seperti pemendapan wap fizikal (PVD), pemendapan wap kimia (CVD) dan pemendapan lapisan atom (ALD), pemanas grafit seramik SiC menyediakan persekitaran suhu tinggi yang stabil dan seragam. Ini penting untuk mengawal kadar pertumbuhan, struktur kristal, keseragaman dan ketulenan filem, dan secara langsung mempengaruhi sifat elektrik peranti.

2. Penyepuhlindapan implantasi ion: Selepas implantasi ion, kerosakan akan terbentuk di dalam wafer dan mengaktifkan dopan. Pemanas grafit seramik SiC digunakan dalam proses penyepuhlindapan suhu tinggi untuk membantu membaiki kerosakan kekisi, mengaktifkan atom doping dan mengoptimumkan pengagihan doping untuk memastikan prestasi elektrik dan kebolehpercayaan peranti.

3. Proses resapan: Dalam relau resapan, pemanas grafit seramik SiC
digunakan untuk menyediakan suhu tinggi yang tepat dan stabil untuk menggalakkan resapan atom doping dalam wafer silikon untuk membentuk kawasan jenis P atau N, dengan itu membina struktur pelbagai peranti semikonduktor.

4. Pertumbuhan epitaxial: Pertumbuhan epitaxial adalah langkah utama dalam pertumbuhan lapisan semikonduktor berkualiti tinggi. Pemanas grafit seramik SiC boleh menyediakan kawalan haba yang tepat untuk memastikan padanan kekisi antara lapisan epitaxial dan substrat, mengurangkan kecacatan, dan meningkatkan keseragaman dan ketulenan lapisan epitaxial.

5. Pembersihan dan pengeringan selepas goresan: Dalam beberapa langkah pembersihan dan pengeringan selepas pengelasan, pemanasan yang sesuai diperlukan untuk mempercepatkan penyejatan pelarut atau rawatan haba. Rintangan kakisan dan ketulenan tinggi pemanas grafit seramik SiC menjadikannya pilihan yang ideal untuk mengelakkan pencemaran sekunder.

6. Rawatan haba wafer: Pada pelbagai peringkat pembuatan semikonduktor, wafer memerlukan pelbagai rawatan haba untuk mengoptimumkan sifat bahan, melegakan tekanan, atau mengaktifkan lapisan berfungsi. Pemanas grafit seramik SiC memenuhi keperluan rawatan haba yang ketat ini dengan tindak balas pantas dan keupayaan kawalan suhu yang tepat.

Semixlab komited untuk menyediakan produk pemanas grafit seramik SiC berkualiti tinggi untuk proses semikonduktor bagi memenuhi keperluan unik anda dalam bidang pembuatan semikonduktor. Memilih pemanas grafit seramik SiC kami bermakna memilih hasil proses yang lebih tinggi, kitaran operasi peralatan yang lebih lama dan proses pengeluaran yang lebih stabil. Kami amat berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.