Cincin tepi SiC pepejal

Ciri Prestasi Utama

Semixlab Bulk SiC Edge Ring direka bentuk untuk memenuhi permintaan ketat pengeluaran semikonduktor generasi akan datang. Atribut prestasi berikut menjadikannya pilihan pilihan untuk ruang etsa plasma dalam fabrik termaju:

● Rintangan Pengeboman Plasma Cemerlang

Dibuat daripada karbida silikon pepejal ketulenan tinggi, cincin tepi mempamerkan daya tahan yang luar biasa kepada plasma berketumpatan tinggi, memastikan haus minimum dan jangka hayat komponen di bawah pengeboman ion yang sengit.

● Rintangan Kakisan Gas Unggul

Bahan SiC menawarkan lengai kimia yang tinggi, dengan berkesan menahan gas goresan menghakis seperti Cl₂, CF₄, dan SF₆ tanpa degradasi permukaan, walaupun dalam persekitaran suhu tinggi.

● Kejutan Terma yang Luar Biasa dan Rintangan Terikan Terma

Dengan kekonduksian terma 120-150 W/m·K dan pekali pengembangan haba yang rendah (~4.5×10⁻⁶ /K), struktur SiC pepejal mengekalkan kestabilan dimensi dan integriti mekanikal semasa kitaran haba yang pantas.

● Permukaan Licin, Operasi Tanpa Zarah

Teknik kemasan permukaan lanjutan memastikan kekasaran permukaan yang rendah (Ra ≤ 0.2 µm), meminimumkan penjanaan zarah dan memudahkan proses pembersihan ruang, yang mengurangkan masa henti.

● Tiada Ledingan atau Ubah Bentuk Dari Masa

Tidak seperti cincin tepi komposit konvensional, reka bentuk SiC monolitik kami kekal rata dan stabil dari segi dimensi sepanjang kitaran proses lanjutan, memberikan prestasi yang boleh dipercayai sepanjang jangka hayat perkhidmatan yang panjang.

Mengapa Memilih Cincin Tepi Semixlab SiC?

Di Semixlab, kami memberikan kualiti unggul yang disokong oleh kepakaran dan inovasi. Inilah sebabnya Semixlab SiC Edge Rings menonjol:

● Penyelesaian Disesuaikan Tersuai

Kami menyediakan penyesuaian penuh berdasarkan spesifikasi proses anda, termasuk diameter dalam/luar, ketebalan, dan salutan atau tekstur permukaan khas, memastikan kesesuaian sempurna dan prestasi optimum dalam ruang goresan anda.

● Julat Jenis Komprehensif

Semixlab menyokong pelbagai platform alat etch termasuk TEL, Lam, AMAT, dan sistem OEM tersuai, dengan kedua-dua gelang tepi standard dan khusus alat tersedia untuk memenuhi keperluan proses yang pelbagai.

● Kualiti Stabil, Penghantaran Cepat

Dengan pengilangan yang diperakui ISO, kawalan kualiti yang ketat dan rantaian bekalan yang diperkemas, kami memastikan prestasi bahagian yang konsisten, masa petunjuk yang singkat dan penghantaran tepat pada masa untuk memastikan pengeluaran anda bergerak tanpa berlengah-lengah.

Sifat Fizikal Teras SiC Pepejal

Aplikasi dalam Pembuatan Semikonduktor

Cincin Tepi SiC Pepejal ialah komponen penting dalam proses etsa plasma wafer silikon, di mana ia berfungsi sebagai antara muka pelindung dan struktur antara wafer dan perkakasan ruang. Diletakkan di sekeliling pinggir wafer, komponen ini memastikan kestabilan proses, melindungi chuck elektrostatik (ESC), dan mengurangkan risiko pencemaran dengan menghalang pengumpulan zarah. Ia amat berharga dalam persekitaran goresan kering berketepatan tinggi dan RIE (Reactive Ion Etching) di mana kebolehulangan proses, perlindungan ruang dan kebolehpercayaan jangka panjang adalah kritikal.