Bot SiC Ketulenan Tinggi
| Tempat Asal: | China |
| Nama jenama: | Semixlab |
| Nombor model: | Bot SiC Ketulenan Tinggi-01 |
| Persijilan: | ISO9001 |
| Kuantiti Pesanan Minima: | Tertakluk kepada rundingan |
| Harga: | Hubungi untuk Sebut Harga Tersuai |
| Pembungkusan Details: | Pakej eksport standard |
| Masa Penghantaran: | 45-60 Hari Selepas Pengesahan Pesanan |
| Pembayaran Terma: | T / T |
| Bekalan Keupayaan: | 50unit/Bulan |
Penerangan Produk
Bot silikon karbida (SiC) ketulenan tinggi ialah pembawa seramik berprestasi tinggi yang direka untuk proses semikonduktor suhu tinggi, pertumbuhan kristal dan rawatan haba ketepatan. Ia disinter dengan bahan SiC ketulenan ultra tinggi dan mempunyai rintangan suhu tinggi yang sangat baik, rintangan kejutan haba dan kestabilan kimia. Ia digunakan secara meluas dalam penyebaran semikonduktor, CVD, epitaksi LED dan pertumbuhan kristal tunggal fotovoltaik.
Permohonan:
Bot SiC Ketulenan Tinggi ialah proses semikonduktor utama yang boleh digunakan, terutamanya digunakan untuk membawa dan memindahkan wafer dalam persekitaran suhu tinggi, dan digunakan secara meluas dalam proses penyebaran wafer silikon, pengoksidaan, penyepuhlindapan dan CVD. Ia amat sesuai untuk proses suhu tinggi semikonduktor generasi ketiga (seperti SiC/GaN) dan peranti kuasa.
Perkhidmatan yang boleh disediakan:
analisis senario aplikasi pelanggan, bahan padanan, penyelesaian masalah teknikal.
Profil Syarikat:
Semixlab mempunyai 2 makmal, pasukan pakar dengan pengalaman material selama 20 tahun, dengan keupayaan R&D dan pengeluaran, ujian dan pengesahan.
spesifikasi
Parameter teknikal
| projek | parameter |
| Jenis Bahan | Silikon Karbida Tersinter (SSiC/RSiC) |
| Ketumpatan | 3.0-3.2 g/cm3 |
| Kekonduksian terma | 120-150 W/m·K |
| Suhu Pengoperasian Maksimum | 1600°C (Suasana Pengoksidaan) |
| Kekasaran permukaan | Ra ≤0.5μm (Boleh Digilap) |

Aplikasi
Medan aplikasi utama
| Arahan permohonan | Senario biasa |
| Industri semikonduktor | Pembawa dalam proses resapan wafer, penyepuhlindapan dan pengoksidaan. |
| Alat sokongan untuk pertumbuhan epitaxial (seperti epitaksi SiC). | |
| LED/MOCVD | Sebagai dulang dalam proses pertumbuhan cip GaN dan LED. |
| industri fotovoltaik | Digunakan untuk pensinteran suhu tinggi sel suria. |
| Bidang penyelidikan | Bekas untuk eksperimen suhu tinggi (seperti sintesis bahan dan rawatan haba). |
Pengesahan pengesahan rantaian ekologi
Pengesahan rantaian ekologi Semixlab High-Purity SiC Boat meliputi bahan mentah kepada pengeluaran, telah lulus pensijilan standard antarabangsa, dan mempunyai beberapa teknologi yang dipatenkan untuk memastikan kebolehpercayaan dan kemampanannya dalam bidang semikonduktor dan tenaga baharu.
Proses permohonan biasa
Penyediaan Bahan Mentah (Serbuk SiC Ketulenan Tinggi) → Proses Pembentukan (Penekanan Kering/Penekanan Isostatik) → Proses Pensinteran → Pemesinan & Kemasan Permukaan (Pengisaran/Penggilap CNC, Etsa Kimia, Penyepuhlindapan) → Penucian & Salutan CVD → Kawalan Kualiti → Pembungkusan
Melalui pengoptimuman parameter proses yang canggih, reka bentuk struktur unik Semixlab High-Purity SiC Boat memastikan kestabilan wafer yang sangat baik sambil mengurangkan risiko pencemaran zarah dengan ketara. Hayat perkhidmatannya boleh mencapai 5-8 kali ganda daripada bot kuarza tradisional, menjadikannya penyelesaian pembawa yang ideal untuk pemprosesan wafer suhu tinggi. Inovasi ini membolehkannya menggantikan import secara beransur-ansur dalam pasaran semikonduktor, menyediakan penyelesaian domestik berprestasi tinggi dan kos efektif.
Untuk spesifikasi teknikal terperinci, kertas putih atau susunan ujian sampel, sila hubungi Pasukan Sokongan Teknikal kami untuk meneroka cara Semixlab boleh meningkatkan kecekapan proses anda.
Kelebihan Persaingan
Kelebihan teras Semixlab High-Purity SiC Boat
1. Kesucian melampau (kelebihan utama)
Bot SiC Ketulenan Tinggi Semixlab mempunyai ketulenan ultra tinggi (≥99.9999%), dan kandungan kekotoran (Fe, Al, Na, dll.) dikawal pada tahap 1 ppm untuk mengelakkan pencemaran wafer atau bahan epitaxial, yang amat sesuai untuk pembuatan semikonduktor SiC/GaN.
2. Lengai kimia (rintangan kakisan)
Tahan kepada hakisan asid, alkali/plasma, dan boleh menahan gas menghakis seperti HF, HCl, H2 (seperti proses etsa semikonduktor). Tiada pelepasan gas pada suhu tinggi.
3. Kekuatan mekanikal dan jangka hayat
Kekerasan ultra tinggi, rintangan haus yang sangat baik, mengurangkan risiko penumpahan zarah dan memanjangkan hayat perkhidmatan (biasanya 3 hingga 5 kali ganda bot kuarza). Tidak mudah berubah bentuk pada suhu tinggi, mengekalkan kerataan wafer (seperti lenturan dalam relau resapan <0.1mm).
4. Keserasian proses
Boleh disesuaikan dengan pelbagai persekitaran yang keras, atmosfera pengoksidaan/penurunan (seperti O2, H2, Ar) dan proses salutan CVD/PVD. Permukaan boleh disesuaikan, seperti penggilap (Ra<0.1μm) atau salutan (seperti SiO2) untuk mengurangkan lagi pencemaran.
Perkhidmatan Kami

Kedai Produk Semixlab


EN
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ




